Maska obvodu připravená vakuovým postříbřením používá chromový film

Maska obvodu připravená vakuovým postříbřením používá chromový film

Antireflexní vrstvy se používají ve velkém množství pro fotografování a lasery všeho druhu - až po velká okna potažená skla novostaveb, což je velmi potřebné. Antireflexní vrstvy jsou široce používány na čočkách fotoaparátů a televizních kamer.

Vakuové lakování hraje v elektronice důležitou roli. Následné obvody všech velikostí. Vodivá fólie, izolační fólie a ochranná fólie by měly být použity pro paměť, aritmetické jednotky a vypovídající logické prvky. Chromová fólie se používá jako maska ​​pro výrobu obvodů. Magnetický tok, magnetický diskový polovodičový laser, zařízení Josephson, zařízení s nábojovou vazbou (CCD) také používají různé tenké vrstvy.

Zdroj vysokofrekvenčního magnetronového naprašování pro vakuové postříbření je drahý a rychlost naprašování je velmi malá

Tímto způsobem se materiál terče stává kondenzátorem v izolačním obvodu.

Zdroj vysokofrekvenčního magnetronového naprašování je však drahý, rychlost naprašování je velmi malá a technologie uzemnění je velmi komplikovaná, takže je obtížné ji použít ve velkém měřítku. K vyřešení tohoto problému bylo vynalezeno magnetronové reaktivní naprašování. To znamená za použití kovového terče, přidání argonu a reaktivního plynu, jako je dusík nebo kyslík. Když kovový terč

Při zasažení součásti se v důsledku přeměny energie spojí s reaktivním plynem a vytvoří nitridy nebo oxidy.

Vakuové stříbření Naprašování kovů a slitin pomocí magnetronových terčů je snadné

Cílový zdroj se dělí na vyvážené a nesymetrické typy. Vyvážený cílový zdroj má rovnoměrný povlak a nevyvážený povlak cílového zdroje má silnou vazebnou sílu se substrátem. Vyvážené terčové zdroje se většinou používají pro polovodičové optické filmy a nevyvážené terče se většinou používají pro opotřebení dekorativních folií.

Bez ohledu na rovnováhu a nerovnováhu, pokud je magnet stacionární, charakteristiky jeho magnetického pole určují, že míra využití cíle je obecně nižší než 30 procent. Aby se zvýšila míra využití materiálu terče, lze použít rotující magnetické pole. Rotující magnetické pole však vyžaduje rotační mechanismus a současně by se měla snížit rychlost rozprašování. Rotující magnetická pole se většinou používají pro velké nebo drahé

Těžký cíl. Jako je naprašování polovodičového filmu. Pro malá zařízení a obecná průmyslová zařízení se často používá zdroj statického terče magnetického pole.

Je snadné naprašovat kovy a slitiny pomocí magnetronových terčových zdrojů a zapalování a naprašování jsou pohodlné. Je to proto, že terč (katoda), plazma a vakuová komora naprašovaného dílu mohou tvořit obvod. Pokud však rozprášíte izolátory, jako je keramika, obvod se přeruší.

www.superbheater.com