Struktura a vlastnosti tenkých vrstev TiCN připravených vakuovým stříbrným naprašováním

Struktura a vlastnosti tenkých vrstev TiCN připravených vakuovým stříbrným naprašováním

Tenké vrstvy TiCN byly připraveny na substrátech z rychlořezné oceli M2 společným naprašováním grafitových terčů a titanových terčů ve smíšené atmosféře dusíku a argonu. Byla detekována tvrdost tenké vrstvy TiCN a k vyhodnocení stavu vazby tenké vrstvy a substrátu byla použita indentační metoda a metoda škrábání. Řezný test závitníku tenkého filmu TiCN byl proveden za účelem zjištění trvanlivosti tenkého filmu TiCN. Výsledky ukazují, že atomy C ve filmu TiCN existují ve formě tuhého roztoku v mřížce TiN, orientace filmu TiCN v krystalové rovině (111) je výrazně slabší než u filmu TiN a lom fólie TiCN je dlouhá bloková struktura a její boční rozměr je větší než u fólie TiN. Film je malý a povrch filmu TiCN je nerovný. Síla spojení mezi filmem TiCN a substrátem je asi 40 N. Atomy C ve filmu TiCN mají účinek zpevnění pevného roztoku a zpevnění zjemnění zrn. Tvrdost filmu TiCN je zvýšena z 20,3 na 33,4 GPa filmu TiN. Fólie TiCN má dobré vlastnosti proti tření a životnost závitníků z fólie TiCN při závitování 40Cr materiálu je výrazně delší než u závitníků s TiN filmem a závitníků bez povlaku.

Příprava tenkých vrstev TiCN vakuovým postříbřením Pevný zdroj C

V současnosti většina PVD metod používá jako zdroj uhlíku CH4 nebo C2H2 pro přípravu tenkých vrstev TiCN. Během procesu přípravy lze úpravou poměru průtoku plynu získat tenké filmy TiCN s různými poměry obsahu prvků a různými vlastnostmi. Problémem této metody je však to, že přebytek uhlíkového zdroje způsobí vážné znečištění vnitřní struktury tělesa pece potahovacího stroje a zbytková uvolněná uhlíková vrstva na stěně pece se uvolní během dalšího procesu potahování, což zasahovat do depoziční atmosféry filmu. Kontinuální výroba je nepříznivá a často vede k nestabilnímu výkonu tenkovrstvých obrobků v průmyslové výrobě.

www.superbheater.com