Silná přilnavost vakuového stříbrného povlaku

Silná přilnavost vakuového stříbrného povlaku

Mezi nimi zařízení pro dekorativní potahování používá metodu odporového ohřevu ve vakuové komoře k odpařování a ukládání pokovovacího materiálu na substrát, takže povrch substrátu může získat kovovou texturu a dosáhnout účelu dekorace. Vyznačuje se rychlou rychlostí tvorby filmu, jasnou barvou, vysokou produkční účinností, dobrou rovnoměrností tloušťky filmu a silnou přilnavostí filmu.

Zařízení pro odpařování povlaků lze použít ke zpracování ABS, PS, PP, PC, PVC, TPU, nylonu, kovu, skla, keramiky a dalších materiálů; vhodné pro odpařování hliníku, chrómu, cínu, india, slitiny india a cínu, oxidu křemičitého, sulfidu zinečnatého a dalších materiálů; zařízení bylo široce používáno v plastových konstrukčních částech mobilních telefonů, inteligentních domácnostech, digitálních produktech, kosmetických obalech, řemeslných výrobcích, hračkách, obalech na víno, elektronických součástkách a dalších produktech.

Existují tři typy odpařovacích zdrojů pro vakuové postříbření

1. Odporový zdroj ohřevu: použijte žáruvzdorné kovy, jako je wolfram a hliník k výrobě lodní fólie nebo vlákna, a použijte proud k ohřevu odpařovacího materiálu nad ním nebo umístěného v kelímku. Zdroj odporového ohřevu se používá především k odpařování Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni a dalších materiálů.

2. Vysokofrekvenční indukční zdroj ohřevu: k ohřevu kelímku a odpařovaného materiálu použijte vysokofrekvenční indukční proud.

3. Zdroj ohřevu elektronovým paprskem: vhodný pro materiály s vysokou teplotou vypařování (ne nižší než 2000), to znamená bombardování materiálů elektronovými paprsky, aby se odpařily.

Vakuové stříbření odpařuje atomy nebo molekuly látky

U velkoplošných nátěrů se používá odpařovací metoda rotujících nebo vícenásobných odpařovacích zdrojů pro zajištění rovnoměrnosti tloušťky filmu. Vzdálenost od zdroje odpařování k substrátu by měla být průměrná velikost molekul páry ve zbytkovém plynu. Liberty City, aby se zabránilo chemickým účinkům způsobeným srážkou molekul páry a zbytkových molekul, je průměrná kinetická energie molekul páry asi 0,1~0,2 elektronvoltů.

www.superbheater.com